Digital Repository of Scientific Institutes

Resource type
- Text (14)
Collections
- Literature (14)
  - Books/Chapters (14)
- Partners' collections (14)
  - Łukasiewicz Research Network - Institute of Microelectronics and Photonics (14)
    - Electronic Materials (14)
Object availability
- Available (14)
Date issued/created A date associated with an event in the life cycle of the resource
Access
- Open (14)

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Items per page:

add all to bibliography

of 1

Prof. Witold Rosiński - nestor polskiej elektroniki sam o sobie

Rosiński Witold

2008

Text

Dielectric properties of perovskite multiferroic Pb(Fe0.5Nb0.5)O3,-Bi0.95Dy0.05FeO thick films = Właściwości dielektryczne perowskitowych multiferroicznych grubych warstw Pb(Fe0.5)O3-Bi0.95Dy0.05FeO3

Stoch Agata

2008

Text

Spis treści 2008 T.36 nr 3 = Contents 2008 T.36 nr 3

2008

Text

The main properties of amorphous antireflective coating for silicon solar cells = Najważniejsze właściwości amorficznych warstw antyrefleksyjnych (ARC) do zastosowań w krzemowych ogniwach słonecznych

Swatowska Barbara

2008

Text

Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering = Badanie właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw TiO2:(Eu, Pd) wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego

Kaczmarek Danuta

2008

Text

Electronic properties of thin niobium doped barium titanate films = Właściwości elektryczne cienkich warstw tytanianu baru domieszkowanego niobem

Firek Piotr

2008

Text

Technological aspects of automated selective systems application in conformal coating processing

Witek Krzysztof

2008

Text

Resistive pressure sensors fabricated from polymer thick composites containing carbon nanotubes = Rezystywne czujniki nacisku wytworzone z grubowarstwowych kompozytów polimerowych zawierających nanorurki węglowe

Jakubowska Małgorzata

2008

Text

Pomiar koncentracji nosników ładunku w płytkach monokryształów objętościowych i warstwach epitaksjalnych SiC za pomocą sondy rtęciowej = Measurement of charge carrier concentration in SiC wafers of bulk crystals and epitaxial layers using mercury probe

Brzozowski Andrzej

2008

Text

Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV Joanna Pawłowska, Anna Bańkowska. = Application of selective chemical etching to producing on the orientation flats on the wafers III-V semiconducting compounds

Pawłowska Joanna

2008

Text

Elektrochemiczne osadzanie gradientowych powłok stopowych Ni-P = Electrochemical deposition of Ni-P palloy gradient coatings

Wiliński Zbigniew

2008

Text

Kompatybilność materiałów w bezołowiowym systemie rezystywnym = Materials compatibility in lead-free resisitve system

Kiełbasiński Konrad

2008

Text

Wytworzenie i charakteryzacja całoszklanego włókna z przerwa fotoniczną = Implementation and characterization of All-glass photonic band GaP fiber

Kujawa Ireneusz

2008

Text

Pomiar długozasięgowego odchylenia od płaskości powierzchni płytek Si za pomocą HR XRR = Measurement of long range surface flatness deviation of Siu wafers by means of HR XRR method

Mazur Krystyna

2008

Text

1
of
1

This page uses 'cookies'. More information