@misc{Żelazko_Jarosław_Wpływ_2004, author={Żelazko Jarosław}, volume={32}, number={1/4}, copyright={Rights Reserved - Free Access}, address={Warszawa}, journal={Electronic Materials}, howpublished={online}, year={2004}, publisher={ITME}, language={pol}, type={Text}, title={Wpływ parametrów technologicznych na właściwości epitaksjalnych warstw węglowych osadzanych z fazy gazowej na podłożach krzemowych = Effect of technological parameters on the properties of carbon epitaxial layers deposited from the GaS phase on silicon substrates}, URL={http://rcin.org.pl/Content/18026/PDF/WA901_15623_M1_r2004-t32-z1-4_Mater-Elektron-Zel_i.pdf}, keywords={carbon epitaxial layer, RFCVD, Electronic - materials, Electronic - journal - materials}, }