@misc{Jaskólska_Anna_Badanie_1983,
 author={Jaskólska Anna},
 volume={42},
 editor={Żołek Ewa},
 number={2},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 address={Warszawa},
 journal={Electronic Materials},
 howpublished={online},
 year={1983},
 publisher={Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"},
 language={pol},
 type={Text},
 title={Badanie zależności kinetycznych procesu polerowania płytek krzemowych = The kinetic dependences in the polishing of silicon wafers},
 URL={http://rcin.org.pl/Content/7663/PDF/WA901_12309_M1_r1983-z2-42_Mater-Elektroniczne_Jaskolska_i.pdf},
 keywords={Electronic - journal - materials, Electronic - materials, chemical-mechanical polishing, Si wafer},
}