TY - GEN N1 - 32-42 s. : il. ; 24 cm. N1 - Bibliogr. s. 41 L1 - http://rcin.org.pl/Content/15346/PDF/WA901_14925_M1_r1996-t24-z2-3_Mater-Elektroniczne_Tomaszewski_i.pdf M3 - Text J2 - Materiały Elektroniczne 1996 T.24 nr 2/3 PY - 1996 IS - 2/3 EP - 42 KW - Electronic - materials KW - Electronic - journal - materials KW - magnetron sputtering KW - YSZ KW - XRD A1 - Tomaszewski Henryk A2 - Haemers Johan A2 - De Roo Nico A2 - De Gryse Roger PB - ITME VL - 24 CY - Warszawa SP - 32 T1 - Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru UR - http://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/15346 ER -