RCIN and OZwRCIN projects

Object

Title: Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV Joanna Pawłowska, Anna Bańkowska. = Application of selective chemical etching to producing on the orientation flats on the wafers III-V semiconducting compounds

Object collections:

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Jun 29, 2012

Number of object content hits:

736

All available object's versions:

https://rcin.org.pl/publication/16003

Show description in RDF format:

RDF

Show description in OAI-PMH format:

OAI-PMH

×

Citation

Citation style:

This page uses 'cookies'. More information