@misc{Nossarzewska-Orłowska_Elżbieta_Wpływ_1994,
 author={Nossarzewska-Orłowska, Elżbieta},
 volume={22},
 editor={Sarnecki Jerzy},
 editor={Wodzińska Halina},
 editor={Skwarcz Jerzy},
 number={2},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 journal={Electronic Materials},
 address={Warszawa},
 howpublished={online},
 year={1994},
 publisher={ITME},
 language={pol},
 title={Wpływ obecności Fe i Ni na własności krzemowych warstw epitaksjalnych = Influence of Ni and Fe on silicon epitaxial layers properties},
 type={Text},
 URL={http://rcin.org.pl/itme/Content/13839/PDF/WA901_14353_M1_r1994-t22-z2_Mater-Elektroniczne_Nossarzewska_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, silicon epitaxial layer, transition metal, dielectric properties},
}