@misc{Strupiński_Włodzimierz_Optymalizacja_1993, author={Strupiński Włodzimierz}, volume={21}, number={1}, copyright={Rights Reserved - Free Access}, address={Warszawa}, journal={Electronic Materials}, howpublished={online}, year={1993}, publisher={ITME}, language={pol}, type={Text}, title={Optymalizacja profilu koncentracji domieszki w warstwach GaAs otrzymywanych metodami MOVPE i HVPE = Optimalization of doping profile in GaAs epilayers obtained by MOVPE and HVPE methods}, URL={http://rcin.org.pl/itme/Content/13661/PDF/WA901_14239_M1_r1993-t21-z1_Mater-Elektron-Stru_i.pdf}, keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, epitaxy, GaAs, doping profile}, }