@misc{Nossarzewska-Orłowska_Elżbieta_Epitaksja_1978,
 author={Nossarzewska-Orłowska Elżbieta},
 volume={21},
 editor={Grudzieński Andrzej},
 editor={Tomaszewski Jerzy},
 number={1},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 journal={Electronic Materials},
 address={Warszawa},
 howpublished={online},
 year={1978},
 publisher={Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"},
 language={pol},
 title={Epitaksja odwrotna w technologii otrzymywania krzemowych przyrządów półprzewodnikowych = Reversed epitaxy in the silicon devices technology},
 type={Text},
 URL={http://rcin.org.pl/itme/Content/18316/PDF/WA901_11259_M1_r1978-z1-21_Mater-Elektron-Nos_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, reversed epitaxy, CVD, Si},
}