Dyfuzja niklu w procesie wzrostu klrzemowych warstw epitaksjalnych = Nickel diffusion during the growth of epitaxial silicon - Institute of Electronic Materials Technology

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Dyfuzja niklu w procesie wzrostu klrzemowych warstw epitaksjalnych = Nickel diffusion during the growth of epitaxial silicon

Download

Title: Dyfuzja niklu w procesie wzrostu klrzemowych warstw epitaksjalnych = Nickel diffusion during the growth of epitaxial silicon

Creator:

Date issued/created:

Resource type:

Subtitle:

Materiały Elektroniczne 1994 T.22 nr 4

Contributor:

Kozłowski Roman ; Kamiński Paweł

Publisher:

Place of publishing:

Description:

4-18 s. : il. ; 24 cm. ; Bibliogr. s. 18

Relation:

Electronic Materials

Volume:

Issue:

Start page:

End page:

Detailed Resource Type:

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

oai:rcin.org.pl:14646

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

Rights:

Rights Reserved - Free Access

Terms of use:

Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms

Digitizing institution:

Institute of Electronic Materials Technology

Original in:

Library of the Electronic Materials Technology Institute

Projects co-financed by:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Access:

Subject and keywords:

Electronic - materials Electronic - journal - materials silicon epitaxy nickel diffusion Ni

Object collections:

Łukasiewicz Research Network - Institute of Microelectronics and Photonics > Electronic Materials

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Oct 2, 2012

Number of object content downloads / hits:

582

All available object's versions:

https://rcin.org.pl/itme/publication/14630

Show description in RDF format:

Show description in RDFa format:

Show description in OAI-PMH format:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Edition name	Date
Plewa Dariusz, Dyfuzja niklu w procesie wzrostu krzemowych warstw epitaksjalnych	Oct 2, 2020

Objects Similar

Głębokie centra defektowe w krzemowych warstwach epitaksjalnych zanieczyszczonych żelazem= Deep-level defects in Fe-contaminated epitaxial silicon

Plewa Dariusz

1995

Text

Precyzyjne druty rezystywne ze stopów Cu-Ni-Mn i Ni-Cr-Al-Si = Precise resistive wires from Cu-Ni-Mn and Ni-Cr-Al-Si alloys

Kamionka Tadeusz

1993

Text

Spoiwa kompozytowe SnPb/Ni - wytwarzanie, struktura i własności technologiczne = SnPb/Ni composite solders-method of forming, structure and technological properties

Nowakowski Maciej

1984

Book/Chapter

Elektrochemiczne osadzanie gradientowych powłok stopowych Ni-P = Electrochemical deposition of Ni-P palloy gradient coatings

Wiliński Zbigniew

2008

Text

Wpływ miedzi na złącza międzyfazowe srebro-nikiel

Wehr Anna

1995

Text

Własności i zachowanie się warstw niklowych w złączach ceramika-metal = Properties and behavior of nickel layers in ceramic-metal joints

Muszkat Wacław

1978

Text

Krzemowe warstwy homoepitaksjalne = Homoepitaxial silicon layers

Korec Jacek

1978

Text

Epitaksja krzemu na krzemie porowatym = Silicon epitaxy over porous silicon

Nossarzewska-Orłowska Elżbieta

1995

Text

More

Citation style:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

This page uses 'cookies'. More information