Institute of Electronic Materials Technology

Resource type
- Text (38)
Collections
- Electronic Materials (38)
File type
- application/pdf (38)
Content format
- PDF (38)
Object availability
- Available (38)
Date issued/created A date associated with an event in the life cycle of the resource
Access
- Open (38)

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Items per page:

add all to bibliography

of 2 Next

Epitaksja MOVPE azotków III grupy układu okresowego - główne problemy technologiczne = MOVPE deposition of III-V compounds. The main technological issues

Dumiszewska Ewa

2003

Text

Wpływ kwasów i zasad na stabilność zawiesin proszku tlenku glinu w izopropanolu = Influence of Acids and baises on stability of alumina powder suspensions in isopropanol

Loiko Edouard M.

2003

Text

Zastosowanie metod woltamperometrycznych do kontroli procesów elektroosadzania metali =

Lipińska Ludwika

2003

Text

Wzrost i obróbka monokryształów szafiru o średnicach 1" i 2" = Growth and machining of 1" and 2" of sapphire

Hofman Władysław

2003

Text

Spis treści 2003 T.31 nr 3/4 = Conyents 2003 T.31 nr 3/4

2003

Text

Krzemowe warstwy epitaksjalne do detektorów promieniowania jądrowego = Silicon epitaxial layers for nuclear radiation detectors

Nossarzewska-Orłowska Elżbieta

1998

Text

Spis treści 1998 T.26 nr 3/4 = Contents 1998 T.26 nr 3/4

1998

Text

Dwutlenek cyrkonu jako nowoczesny ceramiczny materiał konstrukcyjny = Zirconia - modern ceramic engineering material

Kulczycki Adam

1982

Text

Własności stopu SnZn30 stosowanego do metalizacji kondensatorów = Properties of SnZn30 alloy used in capacitor metallization

Drożdż Tadeusz

1982

Text

Obliczanie stałych anizotropii magnetycznej w ciekłych warstwach mierzonych metodą FMR = Ferromagnetic resonance relations in magnetic films

Jabłoński Ryszard

1982

Text

Wpływ tlenku chromowego na mikrostrukturę i własności tworzywa korundowego = The role of Cr2O3 in sintering of a - alumina with liquid phase

Tomaszewski Henryk

1982

Text

Wpływ stanu powierzchni i krzemu na pomiar rezystywności metodą "oporności rozpływu" = The influence of the surface conditions on the resistivity measurements of silicon by the spreading resistance method

Brzozowski Andrzej

1982

Text

Spis treści 1981 nr 3/4(35/36) = Contents 1981 nr 3/4(35/36)

1982

Text

Dwójłomne włókna mikrostrukturalne = The birefringent microstructured optical fibers

Kujawa Ireneusz

2010

Text

Krótkie wprowadzenie do tematyki ogniw fotoelektrochemicznych = Short introduction to photo-electrolysis cells

Bieńkowski Krzysztof

2010

Text

Własności linii wW w MCz-Si i FZ-Si naświetlanym neutronami = Optical properties of W line for neutron irradiated MCz-Si and FZ-Si

Surma Barbara

2010

Text

Spis treści 2010 T.38 nr 3/4 = Contents 2010 T.38 nr 3/4

2010

Text

Multifunctionality of multiferroic-based eutectic composites = Wielofunkcyjność w kompozytach eutektycznych na osnowie multiferroicznej

Orliński Krzysztof

2010

Text

Deep-level deffects in epitaxial 4H-SiC irradiated with low-energy electrons = Głębokie centra defektowe w warstwach epitaksjalnych 4H-SiC napromieniowanych elektronami o niskiej energii

Kamiński Paweł

2010

Text

Spis treści 2007 T.35 nr 3/4 = Contents 2007 T.35 nr 3/4

2007

Text

Zastosowanie oprogramowania wspomagającego kontrolowanie procesu epitaksji związków półprzewodnikowych w technologii MOCVD = The application of semiconductor epitaxy supporting software in MOCVD technology

Wesołowski Marek

2007

Text

Wpływ zastosowania wysokotemperaturowej warstwy zarodkowej AIL na właściwości GaN osadzonego na podłożach szafirowych = The effect of implementation of high-temperature AlN nucleation layer on properties of GaN grown on sapphire substrates

Lenkiewicz D.

2007

Text

Manganity i kobaltyny strontowo-cerowe jako materiały katodowe ogniw elektrochemicznych = Strontium cerium manganites and cobaltities as cathode materials for electrochemical cells

Gröger Barbara

2007

Text

Określanie koncentracji azotu w monokryształach krzemu otrzymywanych metodą Czochralskiego na podstawie widm absorpcyjnych w zakresie dalekiej podczerwieni = Determination of nitrogen concentration in Czochralski silicon crystals from the far infrared absorption spectra

Możdżonek Małgorzata

2007

Text

Dielektryk ceramiczny do elektroplazmowej syntezy ozonu w warunkach wyładowań powierzchniowych = Ceramic dielectric for electroplasma ozone synthesis under surface discharge conditions

Jodzis Sławomir

2007

Text

1
2
of
2

This page uses 'cookies'. More information