Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przejdź do menu głównego
Przejdź do wyszukiwarki
Przejdź do treści
Przejdź do stopki

Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering

Pobierz

Tytuł: Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering

Twórca:

Kaczmarek Danuta

Data wydania/powstania:

Typ zasobu:

Inny tytuł:

Materiały Elektroniczne 2008 T.36 nr 3

Wydawca:

Miejsce wydania:

Opis:

117-127 s. : il. 24 cm. ; Bibliogr. s. 126

Czasopismo/Seria/cykl:

Materiały Elektoniczne

Tom:

Zeszyt:

Strona pocz.:

Strona końc.:

Szczegółowy typ zasobu:

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:rcin.org.pl:7478

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

Prawa:

Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony

Zasady wykorzystania:

Zasób chroniony prawem autorskim. Korzystanie dozwolone w zakresie określonym przez przepisy o dozwolonym użytku.

Digitalizacja:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Lokalizacja oryginału:

Biblioteka Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych

Dofinansowane ze środków:

Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 2. Infrastruktura strefy B + R ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego

Dostęp:

Temat i słowa kluczowe:

Elektronika - czasopismo - materiały Materiały elektroniczne TiO2 warstwy cienkie rozpylanie magnetronowe

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki > Materiały Elektroniczne

Data ostatniej modyfikacji:

2 paź 2020

Data dodania obiektu:

5 lip 2012

Liczba pobrań / odtworzeń:

562

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://rcin.org.pl/itme/publication/16011

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie RDFa:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Nazwa wydania	Data
Kaczmarek Danuta, Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering	2 paź 2020

Obiekty Podobne

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Tomaszewski Henryk

2003

Tekst

Procesy zachodzące w toku spiekania tworzyw o składzie stechiometrycznym ZrO2 - TiO2 domieszkowanych tlenkiem cynku

Adamiec Maria

1977

Tekst

A constribution to the sonsideration of the synthesis of compounds by the reaction sintering of Oxide powders

Kostič-Gvozdenovič Lj.

1977

Tekst

Evaluation of electrical properties of Eu and Pd-doped titanium dioxide thin films deposited on silicon

Prociow Eugeniusz L.

2008

Tekst

Określenie koncentracji jonów Ga3+ w cienkich warstwach magnetycznych grantów

Sarnecki Jerzy

1982

Tekst

Mikroanaliza rentgenowska cienkich warstw

Sikorski Krzysztof

1983

Tekst

Inżynieria Materiałów Elektronicznych. II Seminarium zorganizowane pod patronatem KBN 16 grudnia 1997 roku

1997

Tekst

Otrzymywanie cienkich warstw VO2 z VOCl3

Bekisz Jan

1974

Tekst

Więcej

Styl cytowania:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji