Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przejdź do menu głównego
Przejdź do wyszukiwarki
Przejdź do treści
Przejdź do stopki

Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors

Pobierz

Tytuł: Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors

Twórca:

Data wydania/powstania:

Typ zasobu:

Inny tytuł:

Proceedings of ITME 1988 z. 25

Współtwórca:

Adamkiewicz Grażyna

Wydawca:

Wydaw. Przem. Masz. "WEMA"

Miejsce wydania:

Opis:

47 s. : il. 24 cm. ; Bibliogr. s. 45-46

Czasopismo/Seria/cykl:

Proceedings of ITME

Zeszyt:

Strona pocz.:

Strona końc.:

Szczegółowy typ zasobu:

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:rcin.org.pl:31768

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

Prawa:

Rights Reserved - Free Access

Zasady wykorzystania:

Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms

Digitalizacja:

Institute of Electronic Materials Technology

Lokalizacja oryginału:

Library of the Institute of Electronic Materials Technology

Dofinansowane ze środków:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Dostęp:

Temat i słowa kluczowe:

Electronic - journal - material Electronic materials stress-induced birefringence semiconductor crystal Mueller calculus

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki > Prace ITME

Data ostatniej modyfikacji:

2 paź 2020

Data dodania obiektu:

7 sie 2013

Liczba pobrań / odtworzeń:

878

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://rcin.org.pl/itme/publication/17917

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie RDFa:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

PRACE ITME
- PRACE ONPMP
- PRACE ITME

Nazwa wydania	Data
Bajor Andrzej, Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych	2 paź 2020

Obiekty Podobne

Fotometryczna metoda pomiaru naprężeń w materiałach półprzewodnikowych = Intensity method for stress measurement of semiconductors

Bajor Andrzej

1985

Text

Zastosowanie formuły Robertsona do wyznaczania wielkości naprężeń w materiałach półprzewodnikowych = The use of Robertson's formula for the evaluation of stress in semiconductor materials

Bajor Andrzej

1987

Text

Some problems of optical inhomogeneity testing in crystalline materials by imaging polarimetry = Niektóre problemy badań niejednorodności optycznej kryształów za pomocą polarymetru obrazowego

Bajor Andrzej L.

1996

Text

Polarymetryczna metoda badania dyspersji dwójłomności w kryształach = Polarimetric method of birefringence dispersion investigation in crystals

Bajor Andrzej Leopold

2004

Text

Analiza stanów naprężeń w procesach ciągnienia i hydrostatycznego wyciskania drutu = An analysis of the state of stresses in drawing and hydrostatic extrusion processes

Erbel Stanisław

1980

Text

Udział pracowników ITME w konferencjach 1996 T.24 nr 2/3 = ITME employees oarticipation in conference 1996 T.24 nr 2/3

1996

Text

Inżynieria Materiałów Elektronicznych. II Seminarium zorganizowane pod patronatem KBN 16 grudnia 1997 roku

1997

Text

Potencjalne możliwości zastosowań polaryskopu liniowego do badań naprężeń i defektów strukturalnych w materiałach półprzewodnikowych = Potentialities of the plane polariscope for studing of residual stress and crystallographic defects in semiconductors

Adamkiewicz Grażyna

1988

Text

Więcej

Styl cytowania:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji