Zastosowanie metody magnetycznego rezonansu protonowego do określania zawartości SiHCl3 w technicznym SiCl4 - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Przejdź do menu głównego
Przejdź do wyszukiwarki
Przejdź do treści
Przejdź do stopki

Zastosowanie metody magnetycznego rezonansu protonowego do określania zawartości SiHCl3 w technicznym SiCl4

Pobierz

Tytuł: Zastosowanie metody magnetycznego rezonansu protonowego do określania zawartości SiHCl3 w technicznym SiCl4

Twórca:

Drożdż Elżbieta

Data wydania/powstania:

Typ zasobu:

Inny tytuł:

Materiały Elektroniczne 1978 nr 4(24)

Współtwórca:

Bukowski Jacek ; Vieth Wojciech

Wydawca:

Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"

Miejsce wydania:

Opis:

s. 21-26 : il. ; 24 cm ; Bibliogr. s. 26

Czasopismo/Seria/cykl:

Materiały Elektoniczne

Tom:

Zeszyt:

Strona pocz.:

Strona końc.:

Szczegółowy typ zasobu:

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:rcin.org.pl:26977

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

Prawa:

Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony

Zasady wykorzystania:

Zasób chroniony prawem autorskim. Korzystanie dozwolone w zakresie określonym przez przepisy o dozwolonym użytku.

Digitalizacja:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Lokalizacja oryginału:

Biblioteka Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych

Dofinansowane ze środków:

Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 2. Infrastruktura strefy B + R ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego

Dostęp:

Temat i słowa kluczowe:

Elektronika - czasopism - materiały Materiały elektroniczne MRP zanieczyszczenie SiCl4

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2 paź 2020

Data dodania obiektu:

15 kwi 2013

Liczba pobrań / odtworzeń:

751

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://rcin.org.pl/publication/44598

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie RDFa:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Nazwa wydania	Data
Drożdż Elżbieta, Zastosowanie metody magnetycznego rezonansu protonowego do określania zawartości SiHCl3 w technicznym SiCl4	2 paź 2020

Obiekty Podobne

Oznaczanie trójchlorosilanu w czterochlorku krzemu metodami ebuliometryczną i densymetryczną

Radomski Janusz

1980

Tekst

Oznaczanie zanieczyszczeń organicznych w niektórych rozpuszczalnikach stosowanych w przemyśle elektronicznym

Wolnik Irena

1982

Tekst

Spektrograficzna metoda oznaczania zanieczyszczeń metalicznych w niobianie litu

Dramińska Wiesława

1982

Tekst

Wpływ wybranych zanieczyszczeń metalicznych na niektóre parametry elektryczne i perfekcję strukturalną krzemowych warstw epitaksjalnych

Wiraszka Marek

1975

Tekst

Oznaczanie sodu i potasu w tlenkowych związkach rutenu metodą płomieniowej emisyjnej spektrom etrii atomowej

Chruścińska Teresa Joanna

1981

Tekst

Oznaczanie zawartości Y, Al, Nd oraz zanieczyszczeń w próbkach Al2O9 (YAM) niedomieszkowanych i domieszkowanych neodymem

Harasimowicz-Siemko Joanna

2011

Tekst

Spektrograficzna metoda oznaczania zanieczyszczeń metalicznych w tellurze o wysokiej czystości

Sokołowska Wanda

1974

Tekst

Badanie zachowania się arsenu w antymonie w procesie topienia strefowego

Dalecki Wojciech

1991

Tekst

Więcej

Styl cytowania:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji