Object

Title: Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru

Objects

Similar
×

Citation

Citation style:

This page uses 'cookies'. More information