Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Przejdź do menu głównego
Przejdź do wyszukiwarki
Przejdź do treści
Przejdź do stopki

Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru

Pobierz

Tytuł: Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru

Twórca:

Tomaszewski Henryk

Data wydania/powstania:

Typ zasobu:

Inny tytuł:

Materiały Elektroniczne 1996 T.24 nr 2/3

Współtwórca:

Haemers Johan ; De Roo Nico ; De Gryse Roger

Wydawca:

Miejsce wydania:

Opis:

32-42 s. : il. ; Bibliogr. s. 41

Czasopismo/Seria/cykl:

Materiały Elektroniczne

Tom:

Zeszyt:

Strona pocz.:

Strona końc.:

Szczegółowy typ zasobu:

Format:

24 cm. ; application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:rcin.org.pl:15346

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

Prawa:

Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony

Zasady wykorzystania:

Zasób chroniony prawem autorskim. Korzystanie dozwolone w zakresie określonym przez przepisy o dozwolonym użytku.

Digitalizacja:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Lokalizacja oryginału:

Biblioteka Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych

Dofinansowane ze środków:

Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 2. Infrastruktura strefy B + R ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego

Dostęp:

Temat i słowa kluczowe:

Materiały elektroniczne Elektronika - czasopismo - materiały rozpylanie magnetronowe ZrO XRD

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2 paź 2020

Data dodania obiektu:

15 paź 2012

Liczba pobrań / odtworzeń:

906

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://rcin.org.pl/publication/14925

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie RDFa:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Nazwa wydania	Data
Tomaszewski Henryk, Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films	2 paź 2020

Obiekty Podobne

Wpływ zawartośąci tlenu w atmosferze spiekania na przemianę C-T niestabilizowanych ziaren dwutlenku cyrkonu rozproszonych w korundowej martycy. Cz. 2

Tomaszewski Henryk

1994

Tekst

Dwutlenek cyrkonu jako nowoczesny ceramiczny materiał konstrukcyjny

Kulczycki Adam

1982

Tekst

Procesy zachodzące w toku spiekania tworzyw o składzie stechiometrycznym ZrO2 - TiO2 domieszkowanych tlenkiem cynku

Adamiec Maria

1977

Tekst

Badania nad wpływem domieszki CaO na własności spieków ceramicznych ZnO-Zr02

Raabe Jerzy

1990

Tekst

Kompozyt Al203-ZrO2 wzmocniony płatkami grafenowymi Marek Boniecki, Przemysław Gołębiewski, Władysław Wesołowski, Michał Woluntarski, Rafał Zybała, Kamil Kaszyca, Anna Piątkowska, Magdalena Romaniec, Paweł Ciepielewski, Konrad Krzyżak.

Boniecki Marek

2016

Tekst

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Tomaszewski Henryk

2003

Tekst

Analiza możliwości zastosowania wysokorozdzielczej dyfraktomaterii rentgenowskiej do badań parametrów strukturalnych warstw epitaksjalnych i supersieci

Sass Jerzy

1994

Tekst

Nowe metody technologii ceramicznej

Tomaszewski Henryk

1979

Tekst

Więcej

Styl cytowania:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji